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    小型HFCVD 热丝化学气相沉积设备 HITSemi-HFCVD-X

    小型HFCVD 热丝化学气相沉积设备，主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜的科研研究。 可用于力学级、热学级、光学级、声学级的金刚石产品的科研研究。

    HFCVD 热丝化学气相沉积设备

    研发设计制造了热丝CVD金刚石设备，分为实验型设备和生产型设备两类。 设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜的研发和生产。可用于力学级别、热学级别、光学级别、声学级别的金刚石产品的研发生产。 可以制造大尺寸金刚石多晶晶圆片，用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉。

    PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备

    PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长；采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术，是沉积高质量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工艺设备。

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