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第27届CIOE中国光博会即将启幕，与腾博会官网半导体共赴微纳制造新程

发布时间：

2026-09-03

2026年9月9-11日，第27届CIOE中国光博会重磅启幕！腾博会官网半导体携磁控溅射、电子束蒸发、HFCVD金刚石沉积等自研真空薄膜装备及全套工艺解决方案亮相深圳宝安会展中心，聚焦先进封装、精密光学、光电子制造，诚邀业界同仁莅临洽谈、共探产业新机遇！

作为光电领域极具影响力的行业盛会，第27届中国国际光电博览会（CIOE中国光博会）将于2026年9月9-11日在深圳国际会展中心（宝安）盛大启幕，腾博会官网半导体诚邀您的莅临！

展位信息

展位号：7A94

展会时间：2026年9月9-11日

展馆：深圳国际会展中心（宝安新馆）

地址：广东省深圳市宝安区福海街道展城路1号

展会指引

7号馆——精密光学展&摄像头技术及应用展

产品亮点

超高真空高能脉冲磁控溅射镀膜设备（HITSemi-UHV-HIPIMS）

在超洁净环境下，采用纳米及原子级制造技术，生长高纯度高质量薄膜。应用场景之一：GaN单晶薄膜生长工艺、GaN基稀磁半导体分子结构材料制备的工艺实现。

生产型 TGV/TSV/TMV高真空磁控溅射镀膜机

该设备用于玻璃基板和陶瓷基板的高密度通孔和盲孔的金属种子层镀膜，深径比>10:1。例如：用于基板镀膜工序Cu/Ti微结构，Au/TiW传输导线双体系膜层淀积能力，为微系统集成密度提升给予支撑。

生产型 高真空磁控溅射/离子辅助/多弧复合镀膜机

该设备广泛应用于铣刀、钻头、轴承、齿轮、镜片等表面的硬质耐磨涂层制备，集成了工件表面处理、离子清洗、颗粒物控制、磁控溅射、离子辅助镀膜及反应溅射镀膜等工艺方法于一体的PVD设备。

科研型 高真空磁控溅射镀膜机

该设备是科研类及中试类高真空磁控溅射镀膜机，主要用2～12英寸圆形平面磁控溅射靶和小型矩形靶进行溅射镀膜。可制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等；适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜及合金膜；可镀制磁性材料和非磁性材料。可用于TGV/TSV/TMV先进封装的研发，高深径比（≥10:1）的深孔金属种子层镀膜。

HFCVD 热丝化学气相沉积设备

设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜的研发和生产。可用于力学级别、热学级别、光学级别、声学级别的金刚石产品的研发生产。可以制造大尺寸金刚石多晶晶圆片，用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉。可用于生产制造防腐耐磨硬质涂层；环保领域污水处理用的金刚石产品。可用于平面工件的金刚石薄膜制备，也可用于刀具表面或其它不规则表面的金刚石硬质涂层制备。可用于太阳能薄膜电池的研发与生产。

高真空电子束蒸发镀膜机

在高真空条件下，采用电子束轰击材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等；可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜；可镀各种高熔点材料。

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新闻中心

电子束如何在真空中给材料“镀”上一层膜？

现代器件的性能，很大程度上取决于薄膜。薄膜可能只有几十到几百纳米厚，却影响着芯片导不导电、镜片透不透光、器件耐不耐高温。这层膜是怎么“铺”上去的？答案之一，便是高真空电子束蒸发镀膜。

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