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    薄膜制备

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    产品 新闻

    PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备

    PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长；采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术，是沉积高质量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工艺设备。

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    磁控溅射技术在医疗影像关键器件核心薄膜制备中的应用

    在现代医疗影像技术的持续演进中，磁控溅射技术已成为薄膜制备领域的核心工艺，广泛应用于医疗影像关键器件的制造过程。

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