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LPCVD 低压化学气相沉积设备

LPCVD低压化学气相沉积设备（科研型LPCVD）是在低压高温的条件下，顺利获得化学反应气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科研研究、实践教学、小型器件制造。

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