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    CVD 化学气相沉积设备

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    产品 新闻

    LPCVD 低压化学气相沉积设备

    LPCVD低压化学气相沉积设备（科研型LPCVD）是在低压高温的条件下，顺利获得化学反应气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科研研究、实践教学、小型器件制造。

    真空高温CVD炉

    真空高温CVD 炉采用高温化学气相沉积的方法，在工件表面沉积各种薄膜，在半导体工业中应用非常广泛，包括沉积大面积的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料，例如：碳化钽涂层、碳化硅涂层材料。

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