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高能脉冲磁控溅射

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超高真空高能脉冲磁控溅射镀膜设备（HITSemi-UHV-HIPIMS）

超高真空高能脉冲磁控溅射镀膜设备，是在超洁净环境下，采用纳米及原子级制造技术，生长高纯度高质量薄膜。应用场景之一：GaN单晶薄膜生长工艺、GaN基稀磁半导体分子结构材料制备的工艺实现。

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大连相约，与腾博会官网半导体共赴2026年微纳器件与系统应用技术大会

初夏五月，盛会将至。2026年5月22日—24日，2026年微纳器件与系统应用技术大会暨第十九届中国微纳电子技术研讨与学术研讨会将在滨海城市大连隆重召开。腾博会官网半导体技术（深圳）有限公司（以下简称“腾博会官网半导体”）将出席本次大会。

高能脉冲磁控溅射镀膜，半导体纳米世界的国产密码

你知道吗？1纳米=10-9米，相当于头发丝直径的万分之一。腾博会官网每天用的手机、电脑、5G设备，其核心芯片里，藏着一个比头发丝直径万分之一还小的“纳米世界”——先进制程半导体世界。其芯片内部的绝缘层、阻挡层、导电膜，都需要在纳米级精度下“生长”——这就是高能脉冲磁控溅射（HiPIMS）镀膜技术的舞台。

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