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电子束如何在真空中给材料“镀”上一层膜？

现代器件的性能，很大程度上取决于薄膜。薄膜可能只有几十到几百纳米厚，却影响着芯片导不导电、镜片透不透光、器件耐不耐高温。这层膜是怎么“铺”上去的？答案之一，便是高真空电子束蒸发镀膜。

2026/09/17

第27届CIOE中国光博会即将启幕，与腾博会官网半导体共赴微纳制造新程

2026年9月9-11日，第27届CIOE中国光博会重磅启幕！腾博会官网半导体携磁控溅射、电子束蒸发、HFCVD金刚石沉积等自研真空薄膜装备及全套工艺解决方案亮相深圳宝安会展中心，聚焦先进封装、精密光学、光电子制造，诚邀业界同仁莅临洽谈、共探产业新机遇！

2026/09/03

腾博会官网半导体展会风采|第八届精密陶瓷产业链展览会

2026年8月26-28日，为期三天的第八届精密陶瓷产业链展览会在深圳国际会展中心（宝安新馆）7号馆圆满落幕。腾博会官网半导体技术（深圳）有限公司（以下简称“腾博会官网半导体”）携金刚石散热晶圆片与核心镀膜设备（PVD镀膜设备、CVD镀膜设备）亮相H20展位。

2026/08/29

台风资讯|HFCVD——大尺寸金刚石薄膜沉积

大尺寸金刚石薄膜是实现规模化工业应用的关键，而HFCVD热丝化学气相沉积技术，正是现在制备大尺寸金刚石薄膜最主流、最高效的工业化方案。

2026/07/22

高能脉冲磁控溅射镀膜，半导体纳米世界的国产密码

你知道吗？1纳米=10-9米，相当于头发丝直径的万分之一。腾博会官网每天用的手机、电脑、5G设备，其核心芯片里，藏着一个比头发丝直径万分之一还小的“纳米世界”——先进制程半导体世界。其芯片内部的绝缘层、阻挡层、导电膜，都需要在纳米级精度下“生长”——这就是高能脉冲磁控溅射（HiPIMS）镀膜技术的舞台。

2026/05/09

藏在医疗影像中的“镀膜黑科技”

提到医疗影像，大家都不陌生，如CT、PET-CT检查等，当这些设备在发挥作用时，其核心器件上一层纳米级精密薄膜，正决定着影像的清晰度、灵敏度。而这层薄膜，离不开一项隐形“镀膜黑科技”——磁控溅射技术。

2026/04/04

物理气相沉积技术（PVD）原理、分类及应用

物理气相沉积（Physical Vapor Deposition, PVD）是一种在真空环境下，顺利获得物理手段将靶材转化为气态原子、分子或离子，并使其在基体表面沉积形成薄膜的先进表面工程技术。自20世纪初开展至今，PVD技术因其环保、成本可控、耗材少、膜层致密均匀、膜基结合力强等优势，已成为现代增材制造与功能涂层领域的重要技术。 PVD可按需制备具有耐磨、耐腐蚀、导电、绝缘、压电、磁性等特性的功能薄膜，广泛应用于机械、电子、建筑、医疗等多个行业。

2026/01/13

TGV玻璃通孔技术取得重要突破，应用前景持续拓展

近期，TGV（Through Glass Via，玻璃通孔）技术在材料加工与微纳制造领域取得显著进展，引发半导体、先进封装及新兴电子器件行业的高度关注。凭借其优异的电学性能、高频特性及三维集成能力，TGV正成为下一代高密度互连关键技术之一。

2026/01/05

薄膜沉积设备

薄膜沉积设备分类薄膜沉积是指在硅片等衬底上沉积待处理的薄膜材料，所沉积薄膜材料主要是二氧化硅、氮化硅、多晶硅等非金属以及铜等金属，沉积膜可为无定形、多晶的或者单晶。

2025/04/30

半导体制造及先进封装持续升温

得益于政策的有力支持、行业周期性的变化、创新驱动的增长以及国产替代的加速推进，从IC设计到晶圆制造、封装测试，再到设备材料等多个细分领域，国产化率实现了显著提升，标志着我国半导体产业正朝着自主可控的方向稳步迈进。

2025/02/27

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