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磁控溅射镀膜仪的定义和作用

发布时间：

2024-07-17

磁控溅射镀膜仪（PVD镀膜设备）是一种先进的表面处理设备，它具有高效的特点。顺利获得利用磁场控制离子束的运动轨迹，实现对材料表面的溅射附着，从而取得高质量的薄膜涂层。磁控溅射镀膜仪的主要作用是在不同材料表面形成均匀、致密且具有良好附着力的薄膜层，以提高材料的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。同时，它也可以用于改变材料的光学性能、电学性能和导热性能等，满足不同领域的需求。

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“中国材料大会2025”：作为新材料领域国家级学术品牌大会，面向国家重大需求，汇聚最权威的专家学者和国家级战略科技力量，聚焦“卡脖子”领域和“前沿必争”领域的关键突破，有助于高端学术研讨，解决行业开展中重大共性问题和新兴产业推进中重大难题，抢占全球新材料开展的学术制高点，形成体系化国家级战略布局，为有助于我国新质生产力建设打造坚实的物质基础与保障。

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